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盛美上海

股票代码:SH688082
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公司简介

公司成立于2005年,是上海市政府科教兴市项目重点引进的集成电路装备企业,是具备世界先进技术的半导体设备制造商。公司主要从事对集成电路制造行业至关重要的半导体清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备、后道先进封装设备以及硅材料衬底制造工艺设备等的开发、制造和销售,并致力于为半导体制造商提供定制化、高性能、低消耗的工艺解决方案,有效提升客户多个步骤的生产效率、产品良率,并降低生产成本。公司经过多年持续的研发投入和技术积累,先后开发了前道半导体工艺设备,包括清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD设备、无应力抛光设备;后道先进封装工艺设备以及硅材料衬底制造工艺设备等。公司连续多年被评为“中国半导体设备五强企业”,入选首批上海市科学技术委员会颁发的“上海市集成电路先进湿法工艺设备重点实验室”。获得2021年度上海集成电路企业半导体设备业销售前五名。公司前道铜互连电镀设备荣获第五届“IC创新奖-成果产业化奖”。此外,盛美被评为上海市“专精特新”企业。被认定为国家级“专精特新小巨人企业”、上海市企业技术中心;荣获浦东新区川沙新镇人民政府“2022年度公益慈善奖”等荣誉。

主营范围

一般项目:半导体器件专用设备制造;电子专用设备制造;机械零件、零部件加工;半导体器件专用设备销售;电子专用设备销售;专用设备修理;专业设计服务;技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广;货物进出口;技术进出口。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)。

主要指标

  • 总股本(股):4.41亿
  • 营业总收入:13.06亿
  • 基本每股收益:0.56
  • 市盈率(静态):39.97
  • 流通股本(股):4.36亿
  • 营业总收入同比:41.73%
  • 基本每股收益-扣除:--
  • 市净率:5.70
  • 总市值:460.93亿
  • 归母净利润:2.46亿
  • 每股净资产:18.31
  • 净资产收益率:3.16%
  • 流通市值:455.52亿
  • 归母净利润同比: 207.21%
  • 每股资本公积金: 10.32
  • 销售毛利率: 50.87%
  • 股东户数: 1.26万
  • 资产总计: 126.38亿
  • 每股未分配利润: 6.48
  • 销售净利率: 18.86%
  • 股权质押: --
  • 负债合计: 45.57亿
  • 每股现金流: 0.54
  • 资产负债率: 36.06%

公司公告

公司信息

  • 公司名称:

    盛美半导体设备(上海)股份有限公司

  • 成立时间:

    2005-05-17

  • 上市日期:

    2021-11-18

  • 注册资金:

    4.41亿

  • 公司地址:

    中国(上海)自由贸易试验区丹桂路999弄5、6、7、8号全幢

  • 员工人数:

    2002

  • 总经理:

    王坚

  • 控股股东:

    ACM RESEARCH, INC.

  • 实际控制人:

    HUI WANG

  • 所属行业:

    半导体元件

主营构成